光学膜厚测厚仪抄板及二次技术开发实例
光学膜厚测厚仪
多年的行业经验，技术精湛的核心团队，缜密的市场布局，成就了佳创近二十年的辉煌。佳创专业从事反向技术研究，现已成功破解了数万项高、中、低端各档次的各类电子产品的技术密码，为广大中小型企业以最低的设备成本获取最大的经济效益做出了贡献，有力地推动了PCB抄板行业的发展，是当之无愧的行业引领者。这是佳创的成功案例之一，有关设备参数如下：
技术参数
活动范围 150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离)
测量范围 100Å~ 35㎛(根据膜的类型)
光斑尺寸 20㎛ 典型值
测量速度 1~2 sec./site
应用领域 聚合体: PVA, PET, PP, PR ...
电解质: SiO2 , Si3N4 , TiO2 , ITO, ZrO2 , BTS, HfO2
半导体: Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS...
佳创专业提供pcb抄板、pcb设计、样机制作与调试、芯片解密、批量代工等服务，正在寻求技术支持的朋友可放心与我佳创商务中心联系吧！
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技术参数
活动范围 150 x 120mm(70 x 50mm 移动距离)
测量范围 100Å~ 35㎛(根据膜的类型)
光斑尺寸 20㎛ 典型值
测量速度 1~2 sec./site
应用领域 聚合体: PVA, PET, PP, PR ...
电解质: SiO2 , Si3N4 , TiO2 , ITO, ZrO2 , BTS, HfO2
半导体: Poly-Si, GaAs, GaN, InP, ZnS...
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