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溅射蒸碳仪电路板抄板及芯片解密案例

                                                                                                                     溅射蒸碳仪 
        佳创专注于反向技术研究领域近二十年,以狼性的技术研究能力在业界著称,现已成功破解了数万件设备的技术密码并实现了二次开发,现已投入第一线使用的设备性能良好,仿真度高,受到了客户的普遍好评。此案例是佳创的成功案例之一,现将有关功能特点详细介绍如下:
技术参数
- 仪器尺寸 : 400mm×300mm×400mm(L×W×H)
- 真空样品室: 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm(D×H)
- 靶(上部电极): 50mm×0.1mm(D×H)
- 样品台: 50mm (D)
- 操作真空: 4×10-1mbar至2×10-2mbar
- 工作电压: 0-1600V (DC)可调
- 溅射电流: 0-50mA
- 溅射定时: 1-9999S
- 蒸碳电流 0-10A(AC)
- 真空泵: 4升两级机械旋转泵(极限真空2×10-2mbar)
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