PLD激光沉积镀膜系统电路板抄板及逆向

                                                                                                         PLD激光沉积镀膜系统
        佳创拥有十余年的反向技术研究经验，其研究对象涉及各领域的电子产品，现已有数百项仪器仪表设备成功案例，这是佳创的又一成功案例。在遵守保密原则的前提下，现将部分资料公布如下：
技术参数
1、最大wafer直径 4”

2、最大靶材数量 6个1” 或3个2”

3、压力(Torr) <10-8

4、真空室直径 24”

5、基片加热器 4”，旋转

6、最高样品温度 850℃

7、Turbo泵抽速
（liters/sec） 800
注：现诚挚对外转让其相关案例的全套技术资料并寻求项目合作，欢迎来电来访咨询、洽谈！