高真空镀膜仪电路板抄板及反向技术案例
高真空镀膜仪
如果说,进取拼搏是佳创的精神食量,反向技术研究就是佳创的物质食量,在精神食量和物质食量的共同哺育下,佳创攻克了数万件反向技术难题,成就了反向技术领域的王者地位。本着“技术为民”所用的原则,佳创将能为人们的生活和工作带来便利的产品作为研究的重点,这就是佳创众多案例中的一项,现将其功能介绍如下:
技术参数
1. 工作电压(Operate Voltage): 10V x 100A 或 20V x 50A
2. 真空度(Vacuum): <10-5 mbar
3. 工作真空度(Operating Vacuum): 1x10-3 mbar~1x10-4 mbar
4. 工作腔室(Chamber): 190mm直径100mm深
5. 工作距离(Working Distance): 125mm
6. 样品台(Stage): 0~90度可调
7. 抽真空系统(Pump System): 75L/秒抽力的分子泵和50L/秒抽力的无油机械旋转泵;
8. 电 源(Power Supply): 220V~240V
9. 蒸发源(Evaporation Sources): 一个金属丝源和一个碳棒源
佳创专业提供抄板设计、样机制作与测试、芯片解密、二次开发、PCB抄板OEM代工等全套服务,如果您想拥有一套既价格优惠又质量保证的先进设备,那就与佳创合作吧,佳创保证给您仿制一套与原装设备效果一样的设备,有意者请与佳创商务中心联系!
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2. 真空度(Vacuum): <10-5 mbar
3. 工作真空度(Operating Vacuum): 1x10-3 mbar~1x10-4 mbar
4. 工作腔室(Chamber): 190mm直径100mm深
5. 工作距离(Working Distance): 125mm
6. 样品台(Stage): 0~90度可调
7. 抽真空系统(Pump System): 75L/秒抽力的分子泵和50L/秒抽力的无油机械旋转泵;
8. 电 源(Power Supply): 220V~240V
9. 蒸发源(Evaporation Sources): 一个金属丝源和一个碳棒源
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