精密刻蚀镀膜仪电路板抄板及逆向简介

                                                                                                                精密刻蚀镀膜仪 
        佳创专注于反向技术研究领域近二十年，以狼性的技术研究能力在业界著称，现已成功破解了数万件设备的技术密码并实现了二次开发，现已投入第一线使用的设备性能良好，仿真度高，受到了客户的普遍好评。此案例是佳创的成功案例之一，现将有关功能特点详细介绍如下：
技术参数
离子源
离子枪 三个潘宁离子枪与微型稀土永磁体
离子束能量 1.0 KeV 到10.0 KeV
离子束直径 刻蚀枪 5mm FWHM；溅射枪 1mm FWHM
离子电流密度 峰 10mA/cm2
气体流量 氩气 0.1cc/分/枪
刻蚀范围 根据离子枪能量为7mm-10mm不等
刻蚀速率 10.0keV下，硅材料约10µm/小时，钨材料约3µm/小时

Airlock组装
样品载台 接纳1¼英寸（31mm）金相套和多种SEM短截线
样本旋转速率 可变速率10-60 rpm
样品倾斜角度 固定角度或可变摇摆角度（0° - 90°）
样品摇摆速率 可变速率5°/秒 - 36°/秒
选配 用于侧插TEM的TEM适配器或SEM样品载台

镀膜
镀膜速率 10.0KeV下约0.5 Å/秒 碳 及 1.5 Å/秒 铬
镀膜范围 均匀直径超过30mm
耙材装置 一方双重耙材，可在真空状态下从外直接选择耙材
耙材材质 四种耙材选择（见详细清单）
厚度监控器 标准-显示镀膜速率和全部镀膜厚度

真空
干燥泵系统 两个部分，隔膜泵搭配一个70 升/秒涡轮泵
压力 5E-6 托（6.6E-4Pa）基本压力
6E-5 托（8E-3Pa）工作压力
真空计 样品腔冷阴极规，搭配固态压力传感器
样品调换 Gatan专利 WhisperlokTM，样品更换时间＜1分钟
液态氮阀 约5小时容量（标准）
活性碳过滤器 真空排气装置，以减少碘蒸汽排放到安全标准

尺寸及功率
总尺寸 560mmW x 480mmD x 430mmH (22W x 19D x 17H)
货运重量 45kg （100 lbs）
电源要求 通用电压 100VAC-240VAC，50/60Hz
用户需确定电源型号以保证正确的线路
能量消耗 运行时需200瓦特，离子枪关闭时需100瓦特
气体需求 氩气 70psi （4.82 bar）
替代气体（其它惰性）20psi （1.38 bar）
碘蒸汽用于反应离子束刻蚀（结晶碘由用户自行提供）
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